上級者向け: 正本の IsoWorld または内部描画 IR の IsoScene を描画します
| 名前 | 型 | 説明 |
|---|---|---|
ワールド world | IsoWorld | コンパイルして描画するワールド |
シーン scene | IsoScene | 直接描画するコンパイル済みシーン |
| 名前 | 型 | 説明 |
|---|---|---|
画像 output | Image | 画像 |
深度マスク depth_mask | Image | 深度マスク |
輪郭マスク edge_mask | Image | 輪郭マスク |
天面輪郭マスク top_edge_mask | Image | 天面輪郭マスク |
シルエットマスク silhouette_mask | Image | シルエットマスク |
継ぎ目マスク seam_mask | Image | 継ぎ目マスク |
天面マスク top_mask | Image | 天面マスク |
左面マスク left_mask | Image | 左面マスク |
右面マスク right_mask | Image | 右面マスク |
| 名前 | 型 | 既定値 | 範囲 | 説明・選択肢 |
|---|---|---|---|---|
フレームモード frame_mode | Enum | AutoFit | — | world から compile する際のフレーム決定方法
|
キャンバス幅 width | Int | 64 | 1–4096 | コンパイル後のキャンバス幅 |
キャンバス高さ height | Int | 64 | 1–4096 | コンパイル後のキャンバス高さ |
原点X origin_x | Float | 32 | -4096–4096 / step 0.5 | コンパイル時に使うスクリーン空間の原点X |
原点Y origin_y | Float | 0 | -4096–4096 / step 0.5 | コンパイル時に使うスクリーン空間の原点Y |
Xステップ tile_step_x | Float | 1 | 0.25–16 / step 0.25 | アイソメX方向の横ステップ倍率 |
Yステップ tile_step_y | Float | 0.5 | 0.25–16 / step 0.25 | 床軸の縦ステップ倍率 |
Zステップ z_step | Float | 1 | 0.25–16 / step 0.25 | 高さ軸のステップ倍率 |
余白 padding | Int | 2 | 0–128 | 自動フィット時に使うピクセル余白 |
スタイル上書き override_style | Bool | false | — | item / world / scene から来たスタイルをこのノードで上書きします |
輪郭を描く draw_outlines | Bool | true | — | 見えている面の輪郭を描画します |
補正プロファイル cleanup_profile | Enum | None | — | レンダラが輪郭をどの方針で補正するか
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階段プロファイル stair_profile | Enum | Neutral | — | 輪郭補正時に優先する階段表現
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補正強度 cleanup_strength | Float | 0.5 | 0–1 / step 0.01 | 将来の補正チューニング用の予約値 |
輪郭色 outline_color | Color | [0,0,0,1] | — | 輪郭線の色 |
Outline, PaletteQuantize, PixelCleanup へ接続する前提の補助マスクを出しますoccupancy grid -> face masks -> edge masks ベースへ置き換える前提ですtop_edge_mask / silhouette_mask / seam_mask を個別に出しており、将来の RasterStyle はこれらの semantic edge を元に組み立てますClassicCube は最終的に cleanup_profile ではなく RasterStyle として実装する前提です